1．将镶嵌材料和样品同时放置在镶嵌膜中，对镶嵌料和样品同时抽真空，该方式抽真空时间短，效率高。
2．可先对样品抽真空，然后在真空条件下，加入镶嵌材料，再对镶嵌材料和样品同时抽真空，这种方式，使样品中的空隙填充更完整，结合更紧密。
VM-2000 真空镶嵌机设备尺寸：
长X宽X高 ：290 X 240 X 220mm
真空室尺寸：直径100mm 高50mm，该尺寸可定制
真空度：-0.08Mpa
电源：220V, 50W
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公司基本资料信息
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1．将镶嵌材料和样品同时放置在镶嵌膜中，对镶嵌料和样品同时抽真空，该方式抽真空时间短，效率高。
2．可先对样品抽真空，然后在真空条件下，加入镶嵌材料，再对镶嵌材料和样品同时抽真空，这种方式，使样品中的空隙填充更完整，结合更紧密。
VM-2000 真空镶嵌机设备尺寸：
长X宽X高 ：290 X 240 X 220mm
真空室尺寸：直径100mm 高50mm，该尺寸可定制
真空度：-0.08Mpa
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